Особенности осаждения хрома при использовании индуктивно-емкостного устройства

Гологан В.Ф., Бобанова Ж.И., Ивашку С.Х.

Аннотация

УДК 621.35 + 621.9.047

Приведены экспериментальные данные, полученные при различных параметрах индуктивно-емкостного устройства. Изменяя значения индуктивности и емкости, можно оказывать существенное влияние на кинетику и производительность процесса осаждения хрома.

The experimental data received at various parameters of the inductance-capacitor device are presented. It is possible to change kinetics and productivity of chromium plating process by varying inductance L and capacity C of the device keeping other conditions of electrolysis identically.

Скачать полнотекстовый PDF. 3092 скачиваний

Menu

Том 44 (2008), Номер 4, стр. 9-16

Особенности осаждения хрома при использовании индуктивно-емкостного устройства

Аннотация