научный журнал
Электронная обработка материалов
ISSN 0013-5739 (Print) 2345-1718 (Online)

Том 36 (2000), Номер 4, стр. 72-76

ИЗ ОПЫТА РАБОТЫ

Конструкция и технология изготовления тестовой матрицы для электрофизических исследований пленочных токопроводящих систем

Шаталов В.В.


Аннотация

УДК 621.382.12

 

На основе экспериментальных исследований конструктивно-технологических вариантов структур оперативного контроля разработан тестовый модуль для комплексной оценки качества и надежности пленочных токопроводящих систем СБИС, прошедший апробацию в условиях реального производства.

 

 

The drop-in and geometry design photomask for testing metallization of VLSI was constructed on base experimental investigation of construction and technology especially of array testing.

 

 
 

Скачать полнотекстовый PDF. 172 скачиваний

Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.