Исследование эрозии катода в процессе магнетронного распыления численным методом

Аннотация

УДК 537.525

Проанализировано влияние параметров разряда в плоском магнетроне постоянного тока на изменение профиля распыляемой мишени. Численным методом подобраны оптимальные условия с точки зрения равномерной эрозии катода.

Correlation between discharge parameters and a profile of the target sputtered in a DC planar magnetron system is studied. With simulation procedure the best conditions are determined for uniform cathode erosion.

Скачать полнотекстовый PDF. 652 скачиваний

Menu

Том 38 (2002), Номер 4, стр. 15-23

Исследование эрозии катода в процессе магнетронного распыления численным методом

Аннотация