En
Ru
Menu
Vol. 44 (2008), Issue 4, p. 9-16
ELECTRICAL SURFACE TREATMENT METHODS
Особенности осаждения хрома при использовании индуктивно-емкостного устройства
Гологан В.Ф., Бобанова Ж.И., Ивашку С.Х.
Abstract
УДК 621.35 + 621.9.047
Приведены экспериментальные данные, полученные при различных параметрах индуктивно-емкостного устройства. Изменяя значения индуктивности и емкости, можно оказывать существенное влияние на кинетику и производительность процесса осаждения хрома.
The experimental data received at various parameters of the inductance-capacitor device are presented. It is possible to change kinetics and productivity of chromium plating process by varying inductance L and capacity C of the device keeping other conditions of electrolysis identically.
Download full-text PDF. 3091 downloads
Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.