EQUIPMENT AND INSTALLATIONS
Голосов Д.А., Свадковский И.В., Завадский С.М.
УДК 621.793
Представлены результаты сопоставительного анализа характеристик четырех конфигураций планарных магнетронных распылительных систем. Проведены исследования особенностей построения магнитных систем устройств несбалансированного типа. Установлены закономерности влияния характеристик разряда на параметры потоков энергетичных частиц на подложку.
The results of comparative analysis of four configurations of planar magnetron sputtering systems characteristics are introduced. The studies of features of constructing of magnet systems of a magnetrons unbalanced type are carried out. The regularities of influencing of discharge characteristics on parameters of energetic particles fluxes on a substrate are established.
Download full-text PDF. 2633 downloads
Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.