Vol. 44 (2008), Issue 5, p. 42-48

ELECTRICAL PROCESSES IN ENGINEERING AND CHEMISTRY

Кумулятивные процессы на пылевой частице в плазме

Василяк Л.М., Высикайло Ф.И., Митин С.В., Тивков А.С.


Abstract

УДК 533.924

 

У поверхности заряженных пылевых частиц в плазме могут развиваться и усиливаться процессы асимметричной ионизации и кумуляции электрического поля, электронных и ионных потоков. В области кумуляции возникает асимметрия в нагреве поверхности частицы и в передаче ей импульса ионами, в результате чего пылевая частица будет двигаться в плазме с высокой скоростью.

 

The processes of asymmetric ionization and cumulation of electric field, as well as development of electron and ion flows can take place in plasma near the surface of the charged dust particles. In the region of asymmetric cumulation, ion and electron flows at the surface of a particle can grow many times over, that leads to an asymmetry heating of a dust particle surface and to an asymmetry of momentum transfer to particle, so a dust particle may move in plasma with high speed.

 

 
 

Download full-text PDF. 1436 downloads

Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.