Рассеивающая способность стандартного электролита хромирования при обработке постоянным и импульсным токами

Цынцару Н.И., Яковец И.В., Келоглу О.Ю., Звонкий В.Г., Ющенко С.П., Дикусар А.И.

Abstract

УДК 621.35 + 621.9.047

Использование метода определения рассеивающей способности (РС) электролита хромирования в ячейке типа ячейки Хулла с неподвижным цилиндрическим электродом показало, что в отличие от электроосаждения на постоянном токе, при котором РС отрицательна, применение импульсного осаждения в секундном диапазоне длительностей импульсов (скважность q = 4, t_имп = 2 с) позволяет достичь значений РС ~ 90%. Несмотря на то, что в условиях применения данного метода определения РС выход по току при использовании постоянного тока снижается (очевидно, вследствие дополнительного тепловыделения), в исследованных импульсных условиях он выше, чем на постоянном токе. Сравнение экспериментально определенных значений распределения скоростей с модельными расчетами в рамках первичного распределения тока и экспериментально измеренной зависимостью выхода по току от плотности тока (i) показывает, что расхождение в области высоких i связано с дополнительным поверхностным тепловыделением, а также отмеченным ранее размерным эффектом при хромировании с высокой плотностью тока.

Using the method of determination of throwing power (TP) of electrolyte for chromium plating in cell like Hull cell with a motionless cylindrical electrode we demonstrated that use of pulse deposition (duty cycle = 0.25, t_pulse = 2 s) allows to obtain values of TP ~ 90% unlike electrodeposition at direct current, at which TP is negative. In spite of the fact, that at use of the given method of TP determination the current efficiency decreases at direct current (obviously, due to additional heat evolution), it is higher under investigated pulse conditions, than at direct current. Comparison of experimentally determined values of rate distribution with modelling calculations within the framework of an initial current distribution and experimentally measured dependence of current efficiency on current density (i) demonstrates, that the divergence in the field of high i is connected with additional surface heat evolution, and also with dimensional effect (mentioned in earlier articles) at chromium plating with high current density.

Download full-text PDF. 3090 downloads

Menu

Vol. 41 (2005), Issue 1, p. 17-22

Рассеивающая способность стандартного электролита хромирования при обработке постоянным и импульсным токами

Abstract