https://doi.org/10.5281/zenodo.3640580
УДК 621.755
Рассмотрены основные схемы, на базе которых создаются установки для электроискрового легирования. Представлены схемы генераторов искровых импульсов от первых релакса-ционных RC-генераторов до разобщенных полупроводниковых. Предложены способы совершенствования схем и улучшения характеристик покрытий. Показано, что процесс высокочастотного легирования с применением ручного вибрирующего электрода значительно улучшает качественные характеристики нанесенных слоев.
Ключевые слова: электроискровое легирование, генераторы искровых импульсов, источники питания, синхронизация генераторов, высокочастотное легирование.
The paper presents the main schemes based on which installations for electrospark alloying have been and are being created. Schemes of generators of spark impulses from the first relaxation RC-generators to the separated semiconductor are considered. Ways of improvement of schemes and of characteristics of the received coverings are offered. It is shown that high-frequency processing considerably improves qualitative characteristics of the deposited layers.
Keywords: electrospark alloying, generators of spark impulses, power supplies, synchronization of generators, high-frequency alloying.
Download full-text PDF. 2445 downloads
Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.