ELECTRICAL SURFACE TREATMENT METHODS
УДК 537.525
Проанализировано влияние параметров разряда в плоском магнетроне постоянного тока на изменение профиля распыляемой мишени. Численным методом подобраны оптимальные условия с точки зрения равномерной эрозии катода.
Correlation between discharge parameters and a profile of the target sputtered in a DC planar magnetron system is studied. With simulation procedure the best conditions are determined for uniform cathode erosion.
Download full-text PDF. 658 downloads
Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.