Исследование влияния условий формирования на свойства тонких пленок молибдена, нанесенных магнетронным распылением

Ануфриев Л.П., Турцевич А.С., Глухманчук В.В., Соловьев Я.А., Баранов В.В.

Abstract

УДК 621.382.8

Исследовались основные электрофизические параметры тонких пленок молибдена, полученных магнетронным распылением в зависимости от условий осаждения. Показано, что лучшей воспроизводимостью обладают пленки, полученные при скорости осаждения порядка 4 нм/с и давлении аргона менее 1 Па на подложки, нагретые до температуры более 450°С.

The study of the basic electrophysical parameters of thin Mo films obtained by magnetron sputtering depending on the conditions of deposition was made. It is shown that the films obtained at deposition rate about 4 nm/s and at less than 1 Pa Argon pressure to the substrates heated up to temperature over 450°C have the best reproducibility.

Download full-text PDF. 3245 downloads

Menu

Vol. 40 (2004), Issue 3, p. 70-74

Исследование влияния условий формирования на свойства тонких пленок молибдена, нанесенных магнетронным распылением

Abstract